許多工業(yè)及科研樣品表面復(fù)雜，可能存在高陡坡、多層薄膜或反射率差異大的區(qū)域。布魯克白光干涉儀通過(guò)特定的技術(shù)設(shè)計(jì)來(lái)處理這些情況。布魯克白光干涉光學(xué)輪廓儀應(yīng)對(duì)材料表面測(cè)量

對(duì)于具有高深寬比或陡峭側(cè)壁的結(jié)構(gòu)，儀器配備的長(zhǎng)工作距離物鏡和光路設(shè)計(jì)，有助于光線抵達(dá)特征底部并返回，從而改善了對(duì)復(fù)雜形貌的還原度。其增強(qiáng)的算法對(duì)斜率較大的區(qū)域也能進(jìn)行有效的分析。

在測(cè)量晶圓上的透明薄膜或涂層時(shí)，可能會(huì)遇到多層干涉信號(hào)的干擾。設(shè)備提供的選配分析模塊，能夠辨識(shí)并區(qū)分這些信號(hào)，從而評(píng)估薄膜厚度或下層界面的形貌。

面對(duì)反射率過(guò)高或過(guò)低的樣品，用戶可調(diào)節(jié)光源強(qiáng)度，并可選擇安裝偏振附件來(lái)優(yōu)化干涉效果，避免信號(hào)失真，使得在不同材質(zhì)上都能獲得較清晰的測(cè)量數(shù)據(jù)，擴(kuò)展了其應(yīng)用范圍。

典型型號(hào): ContourX-500

• 主要用途: 應(yīng)用于半導(dǎo)體、材料科學(xué)、精密光學(xué)及微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）等領(lǐng)域，進(jìn)行表面粗糙度、臺(tái)階高度、幾何輪廓等參數(shù)的測(cè)量與分析。

• 使用簡(jiǎn)介: 通過(guò)計(jì)算機(jī)軟件進(jìn)行操作。放置樣品后，選取合適的物鏡，在軟件界面中調(diào)整光路和掃描參數(shù)，即可啟動(dòng)自動(dòng)測(cè)量并生成三維數(shù)據(jù)。

基礎(chǔ)參數(shù)示例:

• 垂直分辨率: 優(yōu)于0.1 nm

• 最大垂直量程: 5 mm

• 標(biāo)配物鏡: 5X, 10X, 20X, 50X

• 樣品臺(tái)行程: 100 x 100 mm

軟件是其價(jià)值的核心體現(xiàn)。測(cè)量完成后，軟件提供豐富的分析工具：

1. 三維形貌視圖: 以直觀的三維圖像展示表面起伏。

2. 二維輪廓提取: 可在任意位置截取截面線，進(jìn)行臺(tái)階高度、角度等尺寸量測(cè)。

3. 粗糙度分析: 依據(jù)國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)（如ISO 25178），計(jì)算Sa, Sq, Sz等一系列粗糙度參數(shù)。

4. 體積分析: 用于分析磨損、腐蝕或材料的體積損失。

5. 統(tǒng)計(jì)與報(bào)表生成: 可對(duì)多次測(cè)量結(jié)果進(jìn)行統(tǒng)計(jì)分析，并一鍵生成定制化的檢測(cè)報(bào)告。

這些功能將原始的干涉數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)化為有價(jià)值的量化信息，為工藝改進(jìn)和質(zhì)量控制提供直接依據(jù)。布魯克白光干涉光學(xué)輪廓儀應(yīng)對(duì)材料表面測(cè)量