光學(xué)輪廓儀在微電子與MEMS制造中的角色

產(chǎn)品簡介

光學(xué)輪廓儀在微電子與MEMS制造中的角色
微電子和微機電系統(tǒng)（MEMS）制造的特征尺寸不斷縮小，對工藝控制和檢測技術(shù)提出了挑戰(zhàn)。

產(chǎn)品型號：

更新時間：2026-03-06

廠商性質(zhì)：代理商

訪問量：54

產(chǎn)品咨詢 17701039158

產(chǎn)品分類

PRODUCT CLASSIFICATION

三維光學(xué)輪廓儀

BRUKER白光干涉光學(xué)輪廓儀 SENSOFAR共聚焦白光干涉儀儀光新型共聚焦白光干涉儀 SENSOFAR 3D光學(xué)輪廓儀 SENSOFAR結(jié)構(gòu)光三維輪廓儀 SENSOFAR平面度測量干涉儀 ZYGO三維光學(xué)輪廓儀

查看全部產(chǎn)品

相關(guān)文章

Sensofar 3D光學(xué)輪廓儀：晶圓膠與MEMS器件的精密測量利器

Sensofar 3D光學(xué)輪廓儀在PCB表面測量中的應(yīng)用

Sensofar與Track Optic歐洲項目合作開發(fā)可追溯工業(yè)3D粗糙度

SensoPRO：提升效率，確保高質(zhì)量生產(chǎn)的*備軟件

詳細介紹在線留言

光學(xué)輪廓儀在微電子與MEMS制造中的角色

微電子和微機電系統(tǒng)（MEMS）制造的特征尺寸不斷縮小，對工藝控制和檢測技術(shù)提出了挑戰(zhàn)。

Sensofar S neox非接觸式粗糙度輪廓儀以其高分辨率和非破壞性測量的特點，在該領(lǐng)域發(fā)揮著作用。

在晶圓制備階段，硅片的全局平整度（納米形貌）和局部粗糙度是影響后續(xù)光刻和薄膜沉積質(zhì)量的關(guān)鍵。該儀器可以進行大面積、快速的面形測量，監(jiān)控拋光工藝的穩(wěn)定性。在薄膜工藝中，可用于測量介質(zhì)層、金屬層的膜厚均勻性（通過臺階測量）和表面粗糙度，評估沉積工藝的質(zhì)量。

對于MEMS器件，如加速度計、陀螺儀中的可動微結(jié)構(gòu)（懸臂梁、質(zhì)量塊等），其尺寸、側(cè)壁陡直度和表面粗糙度直接影響器件的性能和可靠性。儀器的共聚焦模式有助于獲取微結(jié)構(gòu)的三維形貌，檢查刻蝕或沉積工藝可能引入的缺陷。雖然光學(xué)方法在測量極gao 深寬比結(jié)構(gòu)時存在局限，但對于許多MEMS結(jié)構(gòu)仍能提供有價值的尺寸和形貌信息。

在先jin 封裝領(lǐng)域，如晶圓級封裝（WLP）中，該儀器可以測量凸點（Bump）的高度、共面性，確保互連的可靠性。對于硅通孔（TSV）技術(shù)，可以評估通孔開口的形貌和深度。其非接觸特性wan 全避免了對脆弱微結(jié)構(gòu)的潛在損傷。

光學(xué)輪廓儀在微電子與MEMS制造中的角色

上一個：S neox光學(xué)輪廓儀在精密加工領(lǐng)域的應(yīng)用